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更新時(shí)間:2025-10-27
產(chǎn)品型號(hào):VLP-SA020JH
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代理日本ULVAC愛發(fā)科 CRTM-R1-EL晶體沉積控制器 代理日本ULVAC愛發(fā)科 晶體沉積控制器 石英晶體沉積控制器是一種用于在薄膜制造過程中實(shí)時(shí)高精度地測(cè)量和控制膜厚及沉積速率的裝置。它利用石英晶體振蕩器檢測(cè)薄膜沉積過程中的質(zhì)量變化,并計(jì)算出準(zhǔn)確的膜厚。這在有機(jī)器件、半導(dǎo)體和光學(xué)器件等需要精確膜厚的領(lǐng)域,有助于提高質(zhì)量和生產(chǎn)效率。
更新時(shí)間:2025-10-27
產(chǎn)品型號(hào):CRTM-R1-EL
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日本原裝ULVAC愛發(fā)科 CRTM-R1沉積控制器 日本原裝ULVAC愛發(fā)科 沉積控制器 石英晶體沉積控制器是一種用于在薄膜制造過程中實(shí)時(shí)高精度地測(cè)量和控制膜厚及沉積速率的裝置。它利用石英晶體振蕩器檢測(cè)薄膜沉積過程中的質(zhì)量變化,并計(jì)算出準(zhǔn)確的膜厚。這在有機(jī)器件、半導(dǎo)體和光學(xué)器件等需要精確膜厚的領(lǐng)域,有助于提高質(zhì)量和生產(chǎn)效率。
更新時(shí)間:2025-10-27
產(chǎn)品型號(hào):CRTM-R1-EL
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日本原裝ULVAC愛發(fā)科 CRTM-R1沉積控制器 日本原裝ULVAC愛發(fā)科 沉積控制器 石英晶體沉積控制器是一種用于在薄膜制造過程中實(shí)時(shí)高精度地測(cè)量和控制膜厚及沉積速率的裝置。它利用石英晶體振蕩器檢測(cè)薄膜沉積過程中的質(zhì)量變化,并計(jì)算出準(zhǔn)確的膜厚。這在有機(jī)器件、半導(dǎo)體和光學(xué)器件等需要精確膜厚的領(lǐng)域,有助于提高質(zhì)量和生產(chǎn)效率。
更新時(shí)間:2025-10-27
產(chǎn)品型號(hào):CRTM-R1
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日本原裝ULVAC愛發(fā)科 UNECS-3000A高精度光譜橢偏儀 日本原裝ULVAC愛發(fā)科 高精度光譜橢偏儀 高速光譜橢偏儀是一種用于快速測(cè)量薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測(cè)量?jī)x器
更新時(shí)間:2025-10-27
產(chǎn)品型號(hào):UNECS-3000A
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華南代理ULVAC愛發(fā)科 UNECS-2000A高精度光譜橢偏儀 華南代理ULVAC愛發(fā)科 高精度光譜橢偏儀 高速光譜橢偏儀是一種用于快速測(cè)量薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測(cè)量?jī)x器
更新時(shí)間:2025-10-27
產(chǎn)品型號(hào):UNECS-2000A
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